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技術(shù)文章

TECHNICAL ARTICLES

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  • 202012-11
    金屬基復(fù)合材料的發(fā)展現(xiàn)狀

    金屬基復(fù)合材料除了具有高比強(qiáng)度、高比模量和低膨脹系數(shù)等特點(diǎn)外,還具有良好的耐熱性、高韌性、耐老化性、高導(dǎo)電和高導(dǎo)熱性,同時(shí)還能抗輻射、阻燃、不吸潮、不放氣等特點(diǎn)。通過(guò)不同材料的組合,可以人為地制造出符合科技與工業(yè)生產(chǎn)要求的復(fù)合金屬材料,可以應(yīng)用于機(jī)械制造、冶金、交通、船舶、制藥等多個(gè)領(lǐng)域。1、金屬基復(fù)合材料的研究歷史及發(fā)展現(xiàn)狀在20世紀(jì)60年代,由于傳統(tǒng)金屬材料無(wú)法滿足一些國(guó)家對(duì)于高性能武器裝備以及航空技術(shù)發(fā)展的需求,因此人們開(kāi)始了對(duì)新材料的研究和開(kāi)發(fā),促成了金屬基復(fù)合材料的...

  • 202011-30
    金屬基復(fù)合材料

    金屬基復(fù)合材料(MetalMatrixcomposites,MMCs)主要是指以金屬、合金為基體材料,以纖維、晶須、顆粒等高強(qiáng)度材料作為增強(qiáng)體,制備而成的一種復(fù)合材料。MMCs的常用的制備方法有:粉末冶金法、原位生成復(fù)合法、噴射成形法、鑄造凝固成型法等。按照不同增強(qiáng)相可以分為連續(xù)纖維增強(qiáng)(主要有碳及石墨纖維、碳化硅纖維、硼纖維、氧化鋁纖維、不銹鋼絲和鎢絲)、非連續(xù)纖維增強(qiáng)(包括碳化硅、氧化鋁、碳化硼等顆粒增強(qiáng),碳化硅、氧化鋁、等晶須增強(qiáng),氧化鋁纖維等短纖維增強(qiáng))和疊層復(fù)合三類...

  • 202011-23
    碳化硅半導(dǎo)體封裝核心技術(shù)分析——銀燒結(jié)技術(shù)

    隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,電子產(chǎn)品正在向著質(zhì)量輕、厚度薄、體積小、功耗低、功能復(fù)雜、可靠性高這一方向發(fā)展。這就要求功率模塊在瞬態(tài)和穩(wěn)態(tài)情況下都要有良好的導(dǎo)熱導(dǎo)電性能以及可靠性。功率模塊的體積縮小會(huì)引起模塊和芯片電流、接線端電壓以及輸入功率的增大,從而增加了熱能的散失,由此帶來(lái)了一些了問(wèn)題如溫度漂移等,會(huì)嚴(yán)重影響功率器件的可靠性,加速器件的老化。為了解決高溫大功率器件所面臨的問(wèn)題,近年來(lái),納米銀燒結(jié)技術(shù)受到了越來(lái)越多研究者的關(guān)注。圖1蘋果手機(jī)主板上的器件集成度越來(lái)越高低溫?zé)Y(jié)互連技術(shù)...

  • 202011-16
    碳化硅晶體的高溫退火處理

    碳化硅SiC晶體生長(zhǎng)較常見(jiàn),較成熟的方法仍然是物理氣相輸運(yùn)法(PVT),該方法是一種氣相生長(zhǎng)方法,生長(zhǎng)溫度高,對(duì)原材料以及工藝參數(shù)等都有很高的要求。近年來(lái),國(guó)內(nèi)外對(duì)PVT工藝的開(kāi)發(fā)投入了大量的時(shí)間和精力,SiC晶體的質(zhì)量和尺寸等方面有了很大的突破和提高,但是晶體中仍然存在組織缺陷和微觀應(yīng)力。組織缺陷的存在會(huì)惡化SiC基器件的性能,從而影響器件的應(yīng)用,而應(yīng)力的存在則會(huì)使得SiC晶體在加工階段容易碎裂,從而降低SiC晶片的成品率。因此,降低SiC晶體中存在的組織缺陷和微觀應(yīng)力就顯...

  • 202011-10
    第三代半導(dǎo)體材料之碳化硅

    碳化硅SiC是一種由硅﹙Si﹚與碳﹙C﹚以共價(jià)鍵為主結(jié)合而成的化合物,其基本單元為Si-C四面體,其中Si原子位于中心,周圍為C原子。SiC所有的結(jié)構(gòu)均由Si-C四面體以不同的堆積方式構(gòu)成。目前已發(fā)現(xiàn)的碳化硅同質(zhì)異型晶體結(jié)構(gòu)有200多種,其中六方結(jié)構(gòu)的4H型SiC(4H-SiC)具有高臨界擊穿電場(chǎng)、高電子遷移率的優(yōu)勢(shì),是制造高壓、高溫、抗輻照功率半導(dǎo)體器件的優(yōu)良半導(dǎo)體材料,也是目前綜合性能好、商品化程度高、技術(shù)成熟的第三代半導(dǎo)體材料,它具有:(1)臨界擊穿電場(chǎng)強(qiáng)度是硅材料近1...

  • 202011-9
    ITO靶材常壓燒結(jié)工藝進(jìn)展

    20世紀(jì)90年代初興起了一種新的靶材燒結(jié)方法-常壓燒結(jié)法,它是指在一定氣氛和溫度條件下對(duì)ITO靶材的素坯進(jìn)行燒結(jié),通過(guò)對(duì)燒結(jié)過(guò)程中各因素的控制,來(lái)有效控制ITO素坯晶粒的生長(zhǎng),從而達(dá)到靶材的晶粒分布均勻性及高致密化,該方法對(duì)粉末的燒結(jié)活性和靶材變形的控制都有很高的要求。通常靶材尺寸越大,濺射到平板上的拼縫就越少,價(jià)值也越高。國(guó)外可以做寬1200毫米、長(zhǎng)近3000毫米的單塊靶材,國(guó)內(nèi)只能制造不超過(guò)800毫米寬的。日企ITO制備工藝1.日本東曹公司日本東曹公司的的技術(shù)方案中,將粒...

  • 202010-26
    ITO靶材燒結(jié)工藝

    ITO(氧化銦錫)是制備ITO導(dǎo)電玻璃的重要原料。ITO靶材經(jīng)濺射后可在玻璃上形成透明ITO導(dǎo)電薄膜,其性能是決定導(dǎo)電玻璃產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)效率、成品率的關(guān)鍵因素。ITO靶材性能的重要指標(biāo)是成分、相結(jié)構(gòu)和密度,ITO濺射靶材的成分為In2O3+SnO2,氧化銦與氧化錫成分配比通常為90:10(質(zhì)量比),在ITO靶材的生產(chǎn)過(guò)程中必須嚴(yán)格控制化學(xué)氧含量及雜質(zhì)含量,以確保靶材純度。ITO靶材制備流程ITO靶材的成型工藝制備出成分均勻、致密度較高的初坯,對(duì)經(jīng)過(guò)低溫?zé)崦撝蜔Y(jié)后工藝處理得...

  • 202010-24
    熱處理前景怎么樣?聽(tīng)聽(tīng)管式爐廠家上海皓越怎么說(shuō)

    隨著鋼鐵、機(jī)械、化工等重化工業(yè)逐漸向發(fā)展中國(guó)家轉(zhuǎn)移,熱處理對(duì)中國(guó)制造業(yè)的振興和發(fā)展具有重要的支撐作用,而制造業(yè)的發(fā)展也必將帶動(dòng)中國(guó)熱處理行業(yè)的快速發(fā)展,為中國(guó)熱處理行業(yè)的發(fā)展提供廣闊的發(fā)展空間,行業(yè)的發(fā)展前景廣闊。不過(guò),管式爐廠家上海皓越覺(jué)得,雖然中國(guó)熱處理行業(yè)發(fā)展迅猛、前景廣闊,但面對(duì)著新產(chǎn)品不斷開(kāi)發(fā)、老產(chǎn)品更新?lián)Q代的快速發(fā)展形勢(shì),雖然目前我國(guó)熱處理企業(yè)的生產(chǎn)裝備可以滿足生產(chǎn)需求,但熱處理行業(yè)有的“專、精、特”企業(yè)群體尚未形成,專業(yè)技術(shù)人員短缺,新技術(shù)的推廣應(yīng)用困難;全行業(yè)...

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